Ikhtisar Produk
Peralatan Film Tipis Komposit PVD adalah platform deposisi vakum industri yang dirancang untuk mendepositkan film tipis multi-lapisan, paduan, dan nanokomposit. Mengintegrasikan sputtering magnetron dan sumber busur katodik dalam satu ruang vakum, sistem ini memungkinkan kontrol yang tepat terhadap struktur mikro film, tegangan sisa, dan adhesi antarmuka. Dibangun untuk produksi berkelanjutan dan penelitian dan pengembangan tingkat lanjut, platform ini mengakomodasi substrat logam, keramik, dan polimer dengan geometri ruang yang dapat diskalakan.
-
![Peralatan Deposisi Vakum Komposit PVD]()
Peralatan Deposisi Vakum Komposit PVDPlatform deposisi vakum komposit PVD industri ini mengintegrasikan beberapa teknik deposisi ke dalam satu lingkungan ruang untuk mendepositkan film tipis-lapisan logam, paduan, atau dielektrik...Lihat lebih -
![Sistem Deposisi Film Tipis Hibrid PVD]()
Sistem Deposisi Film Tipis Hibrid PVDSistem Deposisi Film Tipis Hibrid PVD mengintegrasikan evaporasi termal, evaporasi berkas elektron (e-beam), dan sputtering magnetron RF/DC dalam satu arsitektur vakum. Platform ini memungkinkan...Lihat lebih -
![Peralatan Film Tipis Multi-Proses PVD]()
Peralatan Film Tipis Multi-Proses PVDPeralatan Film Tipis Multi-Proses PVD adalah platform pengendapan vakum terintegrasi yang dirancang untuk menggabungkan beberapa teknik fabrikasi-film tipis—termasuk RF/DC Magnetron Sputtering,...Lihat lebih -
![Peralatan Deposisi Komposit PVD]()
Peralatan Deposisi Komposit PVDPeralatan Deposisi Komposit PVD Industri dirancang untuk fabrikasi film tipis-komposit-multi-lapisan dan nano. Sistem ini mengintegrasikan evaporasi termal, evaporasi sinar e-, dan sumber...Lihat lebih -
![Sistem Film Tipis Komposit PVD]()
Sistem Film Tipis Komposit PVDSistem pelapisan vakum kelas industri-yang mengintegrasikan sputtering magnetron (RF/DC/HiPIMS) dan penguapan busur katodik. Dirancang untuk deposisi film tipis-lapisan, paduan, dan...Lihat lebih -
![Peralatan Film Tipis Komposit PVD]()
Peralatan Film Tipis Komposit PVDPeralatan Film Tipis Komposit PVD adalah platform vakum industri yang dirancang untuk mensintesis film tipis multi-lapisan, paduan, dan bertingkat. Dibangun pada arsitektur baja tahan karat...Lihat lebih
Spesifikasi Teknis
|
Parameter |
Kisaran Spesifikasi |
|
Tekanan Vakum Tertinggi |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
Tekanan Kerja |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Suhu Substrat |
Ambien hingga 800 derajat (-loop tertutup yang dikontrol PID) |
|
Sumber Deposisi |
Dapat Dikonfigurasi: Sputtering Magnetron DC/RF, DC Berdenyut, Busur Katodik Terfilter |
|
Keseragaman Ketebalan |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
Bahan Kamar |
Baja Tahan Karat 304L/316L, digerinda secara mekanis dan dipoles secara elektro-(Ra<= 0.4 um) |
|
Integrasi Catu Daya |
Generator MF (10-100 kHz), generator RF (13,56 MHz), Bias DC berdenyut |
|
Sistem Pengendalian |
PLC Industri + IPC dengan eksekusi resep otomatis, pemantauan interlock, dan pencatatan data batch |
Proses Deposisi Komposit
Sistem ini menggunakan arsitektur pengendapan uap fisik hibrid yang menggabungkan teknologi sputtering magnetron dan busur katodik.
Sinergi-Berbagai Sumber:
Pengoperasian beberapa katoda secara simultan atau berurutan memungkinkan transisi komposisi yang tiba-tiba atau bertahap melintasi tumpukan film.
Pra Pengetsaan Ion-Pembersihan:
Tahap pembersihan plasma RF atau DC menghilangkan oksida asli dan kontaminan permukaan sebelum pengendapan untuk memaksimalkan adhesi lapisan-ke-substrat.
Pengendalian Deposisi Reaktif:
Spektroskopi emisi optik (OES) loop tertutup (OES) mengatur injeksi gas reaktif (O2, N2, C2H2) untuk menjaga kestabilan stoikiometri senyawa dan mencegah keracunan target.
Bias Substrat:
Catu daya bias berdenyut tersinkronisasi membombardir film yang sedang tumbuh dengan ion{0}}energi tinggi, sehingga memperkuat struktur mikro dan menyesuaikan tegangan tekan sisa.
Bahan Film
Peralatan ini mendukung spektrum material target yang luas untuk kebutuhan fungsional yang disesuaikan:
Nitrida & Karbida Logam Transisi:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN untuk ketahanan aus dan korosi.
Sistem Nanokomposit & Multilayer:
TiSiN, AlTiSiN, lapisan nano logam/keramik untuk kekerasan ekstrem dan stabilitas termal-suhu tinggi.
Oksida Konduktif Transparan (TCO):
ITO, AZO, IGZO untuk aplikasi optoelektronik dan fotovoltaik.
Logam & Paduan Murni:
Ti, Cr, Al, Cu, Stainless Steel, NiCr untuk lapisan penghalang kontak listrik dan difusi.
Aplikasi
Alat Pemotong Presisi:
Deposisi lapisan super-keras,-gesekan rendah (misalnya, TiAlN) pada sisipan karbida, bor, dan pabrik-akhir untuk memperpanjang umur operasional di bawah beban termal tinggi.
Komponen Otomotif:
Lapisan-pengurang gesekan dan-tahan aus pada ring piston, komponen injeksi bahan bakar, dan rakitan roda gigi.
Optoelektronik & Tampilan:
Lapisan oksida konduktif-resistivitas rendah,-transmisi tinggi untuk panel sentuh dan substrat sel surya.
Alat kesehatan:
Lapisan biokompatibel dan-tahan aus pada instrumen bedah dan implan ortopedi.
Kustomisasi & Konfigurasi Sistem
Konfigurasi teknik disesuaikan dengan batasan fasilitas produksi dan resep proses tertentu:
Ukuran Kamar:
Opsi ruang silinder atau persegi panjang mulai dari sistem batch R&D (diameter 500 mm) hingga sistem kunci-beban produksi{2}}skala besar (1000 mm+).
01
Pilihan Suite Pemompaan:
Mencocokkan root blower, pompa turbomolekuler, dan pompa kriogenik berdasarkan waktu henti-pompa dan profil beban gas yang diperlukan.
02
Perlengkapan Substrat:
Tahapan rotasi planet yang disesuaikan, rotasi satelit 3-sumbu, atau modul roll-ke-roll yang dirancang untuk geometri 3D kompleks atau jaringan kontinu.
03
Tingkat Otomatisasi:
Konfigurasi muatan manual semi-otomatis atau sistem transfer vakum otomatis penuh dengan penanganan media robotik.
04
Manufaktur & Kontrol Kualitas
Deteksi Kebocoran:
Setiap ruang vakum menjalani pengujian kebocoran spektrometer massa helium hingga ambang batas < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.
Inspeksi Las:
Lasan-sisi vakum dilakukan dengan pengelasan TIG, digiling, dan dipoles, diikuti dengan pemeriksaan sinar-X-atau penetran pewarna berdasarkan permintaan.
Kepatuhan Listrik & Keselamatan:
Panel kontrol dibuat sesuai dengan standar NFPA 79 atau CE/IEC, dilengkapi interlock perangkat keras untuk aliran air, tekanan gas, dan keselamatan listrik.
Pengujian Penerimaan Pabrik (FAT):
Pengujian pra-pengiriman mencakup siklus lari kering-berkelanjutan selama 72-jam, verifikasi kinerja vakum, dan pengujian deposisi lapisan menggunakan resep yang ditentukan klien.
Pedoman Persiapan Lokasi:Dokumen persyaratan fasilitas yang komprehensif disediakan dengan merinci antarmuka utilitas (aliran/tekanan air pendingin, beban listrik, udara bertekanan, pembuangan).
Pengoperasian-Di Lokasi:Insinyur layanan lapangan melakukan penyelarasan mekanis, pemeriksaan kebocoran vakum, sambungan listrik, dan kalibrasi awal.
Proses Penyetelan Resep:Kolaborasi-di lokasi dengan ahli metalurgi klien dan teknisi proses untuk mengunci parameter ketebalan, tegangan, dan kekerasan film target.
Dukungan Siklus Hidup:Antarmuka diagnostik jarak jauh, inventaris suku cadang lokal, dan program pemeliharaan preventif terjadwal.
Pertanyaan Umum
Kami-terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok peralatan film tipis komposit pvd terkemuka di Tiongkok. Jika Anda akan membeli peralatan film tipis komposit pvd khusus buatan China, selamat datang untuk mendapatkan daftar harga dari pabrik kami. Untuk konsultasi harga, hubungi kami.
Peralatan Film Tipis Tingkat Lanjut, Sistem deposisi film tipis, Peralatan film tipis untuk aplikasi manufaktur perangkat pintar
