Ikhtisar Produk
Peralatan Film Tipis Evaporasi Berkas Elektron ini dirancang untuk deposisi uap fisik (PVD) dengan presisi tinggi. Dengan memanfaatkan berkas elektron-energi tinggi yang terfokus untuk membombardir bahan sumber, sistem ini mencapai tingkat penguapan yang tinggi untuk logam-titik lebur-tinggi, oksida, dan bahan dielektrik.
Dibangun pada arsitektur vakum modular, sistem ini mengakomodasi senjata elektron multi-saku, perlengkapan media yang dapat disesuaikan, dan-pemantauan di tempat yang canggih. Perusahaan ini melayani laboratorium penelitian dan pengembangan dan-lini produksi dengan throughput tinggi yang memerlukan kontrol ketat terhadap stoikiometri film, adhesi, dan kinerja optik.
-
![Peralatan Evaporasi Berkas Elektron Vakum Tinggi]()
Peralatan Evaporasi Berkas Elektron Vakum TinggiSistem Evaporasi Berkas Elektron Vakum Seri-EBE menyimpan film tipis-dengan kemurnian tinggi untuk aplikasi optik, semikonduktor, dan metalurgi. Dengan mengarahkan berkas elektron yang terfokus...Lihat lebih -
![Sistem Deposisi Film Tipis Berkas Elektron]()
Sistem Deposisi Film Tipis Berkas ElektronSistem Deposisi Film Tipis Berkas Elektron menghasilkan pemrosesan PVD-kemurnian tinggi yang terarah untuk penelitian tingkat lanjut dan produksi industri. Memanfaatkan berkas elektron terfokus...Lihat lebih -
![Peralatan Evaporasi Vakum Berkas Elektron]()
Peralatan Evaporasi Vakum Berkas ElektronSistem Evaporasi Vakum Berkas Elektron ini melakukan pengendapan uap fisik (PVD) logam, oksida, dan dielektrik dengan titik leleh tinggi. Dengan mengarahkan berkas elektron terfokus ke dalam...Lihat lebih -
![Peralatan Deposisi Film Tipis Berkas Elektron]()
Peralatan Deposisi Film Tipis Berkas ElektronSistem pengendapan berkas elektron industri ini menggunakan senjata elektron yang terfokus secara magnetis (3 kW hingga 15 kW) untuk mengarahkan fluks energi berdensitas tinggi-ke dalam perapian...Lihat lebih -
![Sistem Film Tipis Penguapan Berkas Elektron]()
Sistem Film Tipis Penguapan Berkas ElektronSistem Evaporasi Berkas Elektron Seri-EBE dirancang untuk pengendapan uap fisik (PVD) logam dengan titik leleh tinggi, dielektrik, dan bahan optik. Dengan memanfaatkan berkas elektron terfokus...Lihat lebih -
![Peralatan Film Tipis Penguapan Berkas Elektron]()
Peralatan Film Tipis Penguapan Berkas ElektronSeri EBE-V600 adalah platform deposisi uap fisik (PVD) skala industri yang dirancang untuk pelapisan film tipis yang presisi pada komponen optik, perangkat semikonduktor, dan material canggih....Lihat lebih
Spesifikasi Teknis
|
Parameter |
Kisaran Spesifikasi |
Catatan / Konfigurasi Standar |
|
Tekanan Dasar Tertinggi |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Dicapai melalui kelompok pemompaan molekuler kriogenik atau turbo- |
|
Dimensi Ruang |
Disesuaikan (diameter internal 500 mm hingga 1200 mm) |
Baja tahan karat 304L / 316L, dipoles secara elektro- |
|
E-Peringkat Kekuatan Senjata |
6 kW hingga 15 kW (Generator penyapu multi-saku) |
Defleksi berkas yang dapat diprogram dan pengindeksan multi-crucible |
|
Tingkat Deposisi |
0,1 nm/dtk hingga 10 nm/dtk |
Kontrol loop-tertutup-waktu nyata melalui monitor kristal kuarsa |
|
Keseragaman Ketebalan Film |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Perlengkapan substrat planet atau kubah dengan rotasi kecepatan variabel |
|
Suhu Substrat |
Ambien hingga 800 derajat |
Pemanasan radiasi terintegrasi dengan umpan balik termal PID |
Fitur Peralatan Utama
Senjata Elektron-Stabilitas Tinggi:
Dilengkapi defleksi magnetik dan pemfokusan multi-titik untuk mencegah panas berlebih pada bahan sumber dan menghilangkan percikan selama penguapan reaktif.
Desain Wadah Modular:
Dilengkapi dengan 4 hingga 6-kantong yang dapat diindeks, memungkinkan deposisi multi-lapisan tanpa merusak ruang hampa.
Interlock Vakum Tingkat Lanjut:
Katup pneumatik-yang dikontrol PLC, pengurutan vakum-kasaran otomatis, dan interlock melindungi terhadap kegagalan air pendingin dan anomali daya.
Ruang Kontaminasi-Rendah:
Pelindung internal menggunakan baja tahan karat-yang dipoles elektro dengan lapisan yang dapat dilepas untuk pengurangan partikulat dengan cepat dan penyelesaian pemeliharaan.
Bahan & Substrat Film
Bahan Evaporasi yang Kompatibel
Logam: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrik & Oksida: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Jenis Substrat
Wafer silikon (2 inci hingga 12 inci)
Kaca optik, silika leburan, dan substrat kuarsa
Film polimer fleksibel (polimida, PET melalui modul gulungan-ke-gulungan)
Substrat keramik (Al2O3, AlN)
Aplikasi
Lapisan Optik:
Lapisan anti-reflektif (AR), filter-pita sempit, dan cermin-reflektifitas tinggi untuk sistem laser dan fotonik.
Perangkat Semikonduktor:
Pembentukan kontak ohmik, metalisasi gerbang, dan-pemrosesan lepas landas untuk mikroelektronika.
Optoelektronik:
Lapisan oksida konduktif transparan (TCO) dan film tipis untuk layar OLED dan sel fotovoltaik.
Penelitian dan Pengembangan Tingkat Lanjut:
Lapisan magnetik film tipis eksplorasi, film superkonduktif, dan heterostruktur multi-lapisan.
Kustomisasi & Konfigurasi Sistem
Setiap-sistem film tipis dikonfigurasi agar sesuai dengan resep proses dan tata letak fasilitas tertentu. Adaptasi teknik yang tersedia meliputi:
Pemilihan Tumpukan Pemompaan:
Konfigurasi-pompa molekuler (TMP), cryopump, atau konfigurasi difusi-minyak disesuaikan dengan persyaratan vakum dasar dan throughput.
Muat-Integrasi Kunci:
Penguncian-muatan manual atau sistem kluster multi-ruang otomatis untuk menjaga integritas vakum ultra-tinggi dan meningkatkan keluaran wafer.
Metrologi In-Situ:
Port integrasi untuk ellipsometer spektroskopi, monitor optik, atau penganalisis gas sisa (RGA).
Perangkat Lunak Kontrol:
Antarmuka PLC/HMI eksklusif dengan penyimpanan resep, pencatatan data, dan protokol komunikasi SECS/GEM untuk integrasi pabrik cerdas.
Manufaktur & Kontrol Kualitas
Fabrikasi Kapal:
Semua ruang vakum menjalani pengujian kebocoran spektrometer massa helium dengan ambang penolakan <1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Integritas Las:
Pengelasan TIG dilakukan di bawah pelindung gas inert, diikuti dengan pasivasi permukaan internal dan pemolesan mekanis untuk mengurangi pelepasan gas.
Pengujian Penerimaan Pabrik (FAT):
Uji coba pengeringan berkelanjutan selama 72-jam-mengukur kurva pemompaan, presisi penyapuan e-gun, waktu respons interlock, dan stabilitas termal sebelum pengecoran.
Kepatuhan & Standar:
Diproduksi di bawah sistem manajemen mutu bersertifikat ISO 9001, dengan sistem yang dirancang untuk memenuhi arahan CE dan pedoman keselamatan dan ergonomis SEMI (S2/S8) yang relevan.
Pertanyaan Umum
Kami terkenal-sebagai salah satu produsen dan pemasok peralatan film tipis evaporasi berkas elektron terkemuka di Tiongkok. Jika Anda akan membeli peralatan film tipis penguapan berkas elektron khusus buatan China, selamat datang untuk mendapatkan daftar harga dari pabrik kami. Untuk konsultasi harga, hubungi kami.
Peralatan Film Tipis Tingkat Lanjut, Sistem deposisi film tipis, Peralatan film tipis untuk aplikasi manufaktur perangkat pintar
