Sistem Evaporasi Berkas Elektron Seri-EBE dirancang untuk pengendapan uap fisik (PVD) logam dengan titik leleh tinggi, dielektrik, dan bahan optik. Dengan memanfaatkan berkas elektron terfokus yang dibelokkan secara magnetis langsung ke bahan sumber dalam cawan lebur berpendingin air, sistem ini mencapai tingkat pengendapan yang tinggi sekaligus menjaga lingkungan vakum bebas kontaminasi.
Ditargetkan pada lini produksi dan laboratorium penelitian tingkat lanjut, platform ini mendukung fabrikasi-film tipis-lapisan dengan kontrol laju yang presisi, sehingga cocok untuk filter interferensi optik, metalisasi semikonduktor, dan-pelapis tahan aus.
Spesifikasi Teknis
|
Parameter |
Spesifikasi |
|
Tekanan Dasar |
Kurang dari atau sama dengan 5 × 10⁻⁷ Torr (Dicapai dalam waktu 45 menit) |
|
E-Peringkat Kekuatan Senjata |
3 kW hingga 10 kW (Frekuensi sapuan: 0–100 Hz, dapat diprogram) |
|
Konfigurasi Wadah |
4 hingga 6 kantong; kapasitas dari 7 cc hingga 40 cc per kantong |
|
Tahap Substrat |
Air/pemanas-didinginkan; kecepatan putaran 0–30 RPM; opsi tegangan bias tersedia |
|
Kontrol Ketebalan Film |
Pengontrol QCM-saluran ganda (Resolusi: 0,03 Å); pemantauan optik opsional |
|
Dimensi Ruang |
Baja tahan karat 304L, dipoles secara elektro; diameter dalam 500 mm hingga 800 mm |
|
Paket Pemompaan |
Pompa molekuler turbo (1200 L/dtk) didukung oleh pompa kering baling-baling/gulir putar |
Fitur Utama
Lendutan Sinar Magnetik:Geometri e-gun yang dapat ditekuk 270 derajat menjaga filamen terlindung dari semburan material garis pandang langsung, mencegah korsleting dan degradasi filamen.
Tertutup-Kontrol Kecepatan Perulangan:Mengintegrasikan sensor kristal kuarsa multi-saluran dengan keluaran algoritme proporsional-integral-turunan (PID) untuk mengatur arus emisi dan kecepatan deposisi secara dinamis.
Dek Wadah Modular:Mekanisme pengindeksan menggunakan feedthrough ferrofluidik dan motor stepper penggerak langsung untuk peralihan wadah yang cepat dan bebas partikel dalam kondisi vakum.
Arsitektur Keselamatan yang Saling Bertautan:Interlock tingkat-perangkat keras memantau aliran air pendingin, ambang batas vakum, dan status pintu ruang untuk melindungi operator dan-komponen bertegangan tinggi.
Konfigurasi Sistem Vakum
Sub-perakitan vakum dibuat untuk kebersihan dasar dan siklus cepat:
Hidup seadanya & Garis Depan:Pompa gulir kering-bebas minyak (kapasitas: 30 m³/jam) menghilangkan aliran balik hidrokarbon ke ruang utama.
Vakum Tinggi:Pompa molekuler turbo-majemuk yang didukung oleh katup gerbang elektropneumatik dan katup sudut pneumatik.
Pemantauan Tekanan:Gabungan pengukur ion Pirani dan Bayard-Alpert memberikan umpan balik-waktu nyata di seluruh atmosfer hingga vakum ultra-tinggi (10⁻⁹ Torr).
Kemampuan Memanggang:Pemanas inframerah kuarsa opsional atau pemanas jaket memungkinkan degassing termal ruang untuk mencapai ambang batas tekanan dasar lebih cepat.
Bahan & Substrat Film
Materi Sumber yang Didukung
Logam Tahan Api:Ti, Ta, W, Mo, Cr, Ni, Au, Ag, Al, Cu.
Dielektrik & Oksida:SiO₂, TiO₂, Ta₂O₅, Al₂O₃, HfO₂, Nb₂O₅.
Kompatibilitas Substrat
Wafer Semikonduktor:Silikon 2 inci hingga 8 inci, GaAs, safir.
Substrat Optik:Lensa/prisma silika, BK7, Zerodur, germanium, dan zinc selenide yang menyatu.
Substrat Fleksibel:Film polimida (melalui perlengkapan gulungan-ke-penggulungan atau pelat pembawa khusus).
Aplikasi
Optik Laser:Deposisi tumpukan dielektrik-hamburan,-laser-kerusakan-ambang batas (LIDT) rendah (TiO₂/SiO₂) untuk cermin-berkekuatan tinggi dan pemecah sinar.
Semikonduktor & Mikroelektronika:Deposisi logam gerbang, pembentukan kontak ohmik, dan-proses metalisasi lepas landas untuk perangkat dan sensor terpisah.
Optoelektronik:Lapisan oksida konduktif transparan (TCO) dan penguapan katoda logam untuk fabrikasi sel OLED dan fotovoltaik.
Opsi Kustomisasi
Setiap lingkungan produksi memiliki tata letak dan batasan integrasi yang unik. Modifikasi rekayasa pabrik meliputi:
Geometri Kamar:Penempatan port khusus untuk-diagnostik di tempat (misalnya, Ellipsometry, SIMS, atau RHEED).
Muat-Integrasi Kunci:Lengan transfer magnetik linier atau transfer garpu pneumatik otomatis untuk dihubungkan dengan alat cluster atau saluran glovebox.
Biasing & Pemanasan Substrat:Catu daya bias RF/DC untuk deposisi berbantuan ion (IAD) dan pemanasan media hingga 800 derajat .
Lokalisasi PLC & HMI:Siemens S7 atau Allen-Arsitektur kontrol Bradley PLC memenuhi protokol otomatisasi pabrik tertentu.
Kontrol & Pengujian Kualitas
Pengujian Kebocoran:Setiap ruang baja tahan karat yang dilas diuji kebocoran spektrometer massa helium-dengan sensitivitas < 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s sebelum perakitan.
Uji Insulasi-Tegangan Tinggi:Pasokan daya E-gun menjalani pengujian ketahanan dielektrik pada tegangan pengenal 1,5× ditambah 1000V selama 60 detik.
Uji Penerimaan Pabrik (FAT):Sistem menjalani pengujian pembakaran terus menerus selama 72-jam-yang memverifikasi kurva kecepatan pemompaan, kalibrasi sapuan e-gun, dan keseragaman ketebalan film di seluruh media pengujian sebelum proses pengecoran.
Instalasi & Dukungan Teknis
Paket Dokumentasi:Manual komprehensif termasuk skema kelistrikan, diagram P&ID, kode sumber PLC, lembar data keselamatan material, dan sertifikat kalibrasi.
Di-Layanan Situs:Teknisi servis bersertifikat-pabrik menangani perakitan mekanis, sambungan utilitas (air pendingin, pembuangan, listrik), dan pengujian penerimaan lokasi (SAT).
Diagnostik Jarak Jauh:Integrasi router VPN yang aman memungkinkan pemecahan masalah jarak jauh, optimalisasi parameter, dan pembaruan perangkat lunak oleh teknisi proses senior.
Pertanyaan yang Sering Diajukan
T: Berapa waktu henti-pompa standar untuk mencapai tekanan dasar operasional?
J: Dengan menggunakan konfigurasi pompa molekuler turbo-standar 1200 L/s, ruang kering dan kosong mencapai kurang dari atau sama dengan 5 × 10⁻⁷ Torr dalam waktu kurang dari 45 menit dari atmosfer.
T: Bagaimana cara sistem mencegah-kontaminasi silang antar bahan yang berbeda?
J: Sistem ini menggunakan tungku wadah multi-kantong yang dibungkus dalam blok tembaga-berpendingin air, dikombinasikan dengan sistem penutup fisik otomatis yang mengisolasi kantong selama fase tidak aktif atau sebelum-pencairan.
T: Bisakah sistem ini diintegrasikan ke dalam glovebox atmosfer inert-yang sudah ada?
J: Ya. Kami menawarkan adaptasi flensa khusus dan konfigurasi katup gerbang di sisi ruang atau dinding belakang untuk dipasang langsung dengan glovebox standar untuk-penanganan material yang sensitif terhadap udara.
Tag populer: sistem film tipis penguapan berkas elektron, produsen, pemasok, pabrik sistem film tipis penguapan berkas elektron Cina, peralatan film tipis multilayer, Peralatan film tipis untuk aplikasi pembuatan perangkat intelijen buatan, Peralatan film tipis untuk aplikasi manufaktur optoelektronika, Peralatan Film Tipis untuk Aplikasi Manufaktur Perangkat Komputasi Kuantum, peralatan pengukuran film tipis, Sistem plasma film tipis

