Pabrik Pemasok Peralatan Film Tipis Multi-Arc Ion Cina

Ikhtisar Produk

Peralatan pelapisan ion multi-arc industri yang dirancang untuk mengaplikasikan lapisan keras, film fungsional, dan pelapis PVD dekoratif pada komponen presisi. Memanfaatkan pelepasan busur vakum-arus tinggi,-tegangan rendah, sistem ini secara langsung menguapkan material target padat (Ti, Cr, Al, Zr). Ketika dikombinasikan dengan gas reaktif (N2, O2, C2H2), ia mensintesis nitrida logam transisi padat, karbida, dan oksida langsung ke substrat logam.

Dibangun pada arsitektur ruang vakum modular, solusi PVD siap pakai ini mengakomodasi berbagai skala produksi-mulai dari pemrosesan batch R&D hingga manufaktur inline-throughput tinggi yang otomatis. Sistem ini dioptimalkan untuk pemanfaatan target tinggi dan Total Biaya Kepemilikan (TCO) yang rendah dalam lingkungan industri 24/7 yang berkelanjutan.

Peralatan Deposisi Vakum Multi-Arc
Sistem pengendapan vakum multi-busur ini menggunakan teknologi pelapisan ion busur katodik untuk mendepositkan lapisan keras yang padat dan memiliki daya rekat-tinggi pada substrat logam...
Lihat lebih
Sistem Deposisi Ion Multi-Arc
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >Ionisasi 80% bahan katoda padat,...
Lihat lebih
Peralatan Film Tipis Multi-Arc PVD
Sistem PVD Multi-Arc Industri menggunakan deposisi uap fisik busur katodik ionisasi tinggi untuk mendepositkan lapisan keras stoikiometri yang padat (seperti TiN, TiAlN, CrN, dan DLC) ke substrat...
Lihat lebih
Peralatan Deposisi Ion Multi-Arc
Sistem Deposisi Ion Multi-Arc Industri menghasilkan film tipis-adhesi tinggi yang padat melalui penguapan busur katodik-arus,-tegangan rendah. Bahan target padat (katoda) diuapkan dalam atmosfer...
Lihat lebih
Sistem Film Tipis Multi-Ion Busur
Sistem Film Tipis Multi-Arc Ion Industri menggunakan penguapan busur katodik untuk mendepositkan lapisan keramik dan logam yang padat dan beradhesi tinggi-ke substrat logam dan paduan. Dengan...
Lihat lebih
Peralatan Film Tipis Multi-Arc Ion
Sistem pelapisan ion multi-arc ini menggunakan penguapan busur katodik untuk mendepositkan lapisan keras yang padat,-adhesi tinggi, dan film tipis fungsional. Dengan menyalakan busur-arus...
Lihat lebih

Spesifikasi Teknis

Parameter	Kisaran Spesifikasi	Satuan / Catatan
Dimensi Ruang	Ф600 x 600 hingga Ф1500 x 1800	mm (Konfigurasi vertikal atau horizontal khusus)
Tekanan Vakum Tertinggi	<= 5.0 x 10^-4	Pa (Pompa kering + Turbo-set difusi molekul / Minyak)
Sumber Busur Katoda	4 hingga 16 unit	Sumber busur yang dikemudikan atau difilter secara elektromagnetik (FCA)
Kekuatan Bias Substrat	0 hingga -1000	V (Kemampuan bias DC / MF Berdenyut Tingkat Lanjut)
Suhu Pemanasan	Suhu Kamar hingga 600	C (pemanas radiasi yang dikontrol PID)
Keseragaman Deposisi	<= +/- 5%	Diukur melalui XRF di seluruh zona kerja efektif
Sistem Pengendalian	PLC + PC Industri	Eksekusi resep otomatis, pencatatan data SCADA
Keamanan & Kepatuhan	CE, ISO 9001	Penutup listrik yang sesuai dengan UL-tersedia berdasarkan permintaan

Proses Deposisi Ion Multi-Arc

Urutan pengendapan uap fisik beroperasi pada alur kerja otomatis-loop tertutup yang ketat untuk memastikan pengulangan-ke-batch:

Evakuasi & Pengeluaran Gas:

Ruang vakum dipompa hingga tekanan dasar sebesar<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.

Etsa Plasma (Pemboman):

Gas argon diperkenalkan. Bias negatif yang tinggi diterapkan pada penahan media, menghasilkan ion Ar yang membombardir permukaan untuk menghilangkan oksida asli dan kontaminan mikro-.

Penguapan & Ionisasi Busur:

Arus busur DC mengenai katoda logam padat. Titik katoda lokal mencapai kepadatan energi ekstrem, langsung menguapkan material target menjadi-aliran plasma kepadatan tinggi (laju ionisasi > 80%).

Deposisi Reaktif:

Gas reaktif disuntikkan ke dalam fluks plasma pada tekanan parsial yang dikontrol secara tepat melalui Pengontrol Aliran Massa (MFC), membentuk lapisan senyawa stoikiometri pada substrat yang berputar.

Pendinginan & Ventilasi:

Pendinginan terkontrol terjadi di bawah perlindungan gas inert sebelum ventilasi ruang, mencegah oksidasi bagian yang baru dilapisi.

Bahan Film & Sifat Pelapis

Sistem ini mendukung pengaturan katoda multi-logam, memungkinkan arsitektur film monolayer, multilayer, nano-composite, dan gradien:

Timah (Titanium Nitrida):

Lapisan emas standar; kekerasan 2200–2400 HV; koefisien gesekan 0,4. Penggunaan utama: alat pemotong umum dan suku cadang mekanis.

TiAlN (Titanium Aluminium Nitrida):

Ketahanan oksidasi-suhu tinggi hingga 850 C; kekerasan 3000–3300 HV. Penggunaan utama: sisipan pemesinan kering berkecepatan tinggi dan katup mesin.

CrN / CrAlN (Kromium Nitrida):

Ketahanan korosi yang sangat baik dan tekanan internal yang rendah; sifat-anti kejang terhadap-logam nonferrous. Kegunaan utama: cetakan pembentuk, ring piston, dan komponen mesin tekstil.

ZrN / TiCN:

Kekasaran permukaan rendah (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

Aplikasi

Alat Pemotong Presisi:

Pabrik akhir, bor, kompor, dan sisipan yang dapat diindeks memerlukan masa pakai alat yang lebih lama di bawah beban termal yang tinggi.

Powertrain Otomotif:

Pin piston, tappet, komponen injeksi bahan bakar, dan permukaan roda gigi memerlukan pengurangan gesekan batas dan ketahanan lecet.

Cetakan & Mati:

Cetakan injeksi plastik, cetakan stempel, dan sisipan die-casting yang memerlukan ketahanan terhadap keausan perekat dan kelelahan termal.

Komponen Dirgantara:

Bilah turbin dan pengencang titanium beroperasi di lingkungan korosif yang agresif dan-tekanan tinggi.

Kustomisasi & Konfigurasi Sistem

Item katalog standar jarang sesuai dengan tata letak pabrik khusus dengan sempurna. Konfigurasi peralatan disesuaikan berdasarkan geometri komponen tertentu, target waktu siklus, dan batasan fasilitas:

Geometri Kamar:

Ruang baja tahan karat berbentuk segi delapan atau silinder (SUS304/SUS316L) dilengkapi jaket pendingin-berdinding air-ganda.

Tata Letak Sumber:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

Perlengkapan Substrat:

Rotasi planet (3-sumbu) atau mekanisme rotasi tunggal yang digerakkan oleh umpan fluida magnetik untuk menjamin cakupan lapisan yang seragam pada geometri 3D yang kompleks.

Opsi Tumpukan Pemompaan:

Roots blower, pompa baling-baling putar, pompa kriogenik, atau pompa turbomolekuler dikonfigurasikan untuk memenuhi waktu siklus-penurunan pompa yang ketat.

Kontrol Kualitas & Protokol Pengujian

Setiap mesin menjalani Pengujian Penerimaan Pabrik (FAT) yang ketat sebelum dikirim, didokumentasikan untuk ditinjau pembeli:

Uji Integritas Vakum:

Deteksi kebocoran helium menggunakan spektrometri massa (laju kebocoran<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

Keamanan & Kebakaran Listrik-di:

Pengoperasian pasokan listrik, interlock pendingin air, dan logika otomatisasi PLC selama 72 jam secara terus-menerus.

Verifikasi Pelapisan (Lab-dalam rumah):

Proses pengujian sampel dilakukan melalui uji Calo-(ketebalan film), indentasi Rockwell (kekuatan rekat), dan indentasi nano (kekerasan).

Instalasi, Komisioning & Dukungan Teknis

Pedoman Persiapan Lokasi:

Gambar tata letak utilitas terperinci disediakan untuk aliran/tekanan air pendingin, udara bertekanan, ventilasi pembuangan, dan persyaratan busbar listrik.

SAT & Komisioning:

Pemasangan-di lokasi (Pengujian Penerimaan Lokasi), kalibrasi vakum, dan serah terima resep dasar yang dilakukan oleh teknisi proses PVD senior.

Pelatihan Proses:

Pelatihan operator-langsung yang mencakup jadwal penggantian katoda, pemeliharaan vakum preventif, pemecahan masalah, dan pengoptimalan resep dasar.

Dukungan Suku Cadang:

Komponen keausan kritis (katoda, pelindung, isolator, dan seal) distok untuk pengiriman global dalam waktu 48 jam.

Pertanyaan yang Sering Diajukan

T: Bagaimana cara menekan partikel makro (tetesan) yang melekat pada pelapisan ion multi-arc?

J: Kami menggunakan bidang kemudi magnetik yang dapat disesuaikan dikombinasikan dengan bentuk gelombang arus busur yang dioptimalkan untuk menstabilkan titik katoda dan mengurangi emisi tetesan. Untuk aplikasi optik atau medis yang sangat-halus, sistem dapat diintegrasikan dengan sumber Filtered Cathodic Arc (FCA).

T: Berapa waktu penyelesaian umum untuk konfigurasi ruang khusus?

J: Konfigurasi standar dikirimkan dalam waktu 16 hingga 20 minggu. Dimensi ruang yang dapat disesuaikan sepenuhnya, antarmuka pemuatan robotik otomatis, atau sistem pemompaan kriogenik khusus memerlukan waktu 24 hingga 30 minggu sejak persetujuan gambar P&ID.

T: Dapatkah sistem menyimpan beberapa resep pelapisan untuk kelompok bagian yang berbeda?

J: Ya. Sistem kontrol PLC industri menyimpan hingga 100 resep proses individual. Hal ini memungkinkan eksekusi satu-sentuhan otomatis pada pengontrol aliran massa gas (MFC), peningkatan tegangan bias, pengurutan arus busur, dan waktu langkah tertentu.

Kami terkenal-sebagai salah satu produsen dan pemasok peralatan film tipis multi-arc ion di Tiongkok. Jika Anda akan membeli peralatan film tipis multi-arc ion buatan China, selamat datang untuk mendapatkan daftar harga dari pabrik kami. Untuk konsultasi harga, hubungi kami.

Peralatan Film Tipis Tingkat Lanjut, Sistem deposisi film tipis, Peralatan film tipis untuk aplikasi manufaktur perangkat pintar