Sistem Deposisi Ion Multi-Arc

Sistem Deposisi Ion Multi-Arc

Rincian
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >Ionisasi 80% bahan katoda padat, mendorong-pemboman ion berenergi tinggi ke antarmuka substrat untuk menghasilkan daya rekat film yang unggul dibandingkan dengan sputtering magnetron.
Klasifikasi produk
Peralatan Film Tipis Multi-Arc Ion
 
Kirim permintaan
Deskripsi
Parameter teknis

The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >Ionisasi 80% bahan katoda padat, mendorong-pemboman ion berenergi tinggi ke antarmuka substrat untuk menghasilkan daya rekat film yang unggul dibandingkan dengan sputtering magnetron.


Ruang vakum-berdinding baja tahan karat-memiliki sumber busur modular dan pompa-pengelola siklus otomatis yang dikontrol PLC-bawah, pengetsaan plasma in-situ, pengiriman gas reaktif, dan deposisi multi-lapisan.

 

Spesifikasi Teknis

 

Parameter

Spesifikasi

Ukuran Kamar

Diameter dalam yang disesuaikan (Phi 800 mm - Phi 1500 mm)

Bahan Kapal

SUS304/SUS316L berdinding ganda-dengan saluran pendingin internal

Tekanan Dasar

<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped)

Pompa-Waktu Henti

Suasana hingga 6,0 x 10^-2 Pa in<= 15 minutes (clean, empty)

Busur Katoda

4 hingga 12 sumber persegi panjang atau lingkaran

Pasokan Listrik

Busur DC (0-200 A) dan Bias Berdenyut (0-3000 V)

Rotasi Substrat

Rotasi-planet/planet-tunggal multi-sumbu melalui umpan fluida magnetik

Sistem Pengendalian

Siemens S7-1500 PLC + IPC dengan resep otomatis

Persyaratan Utilitas

Air dingin (18-25 C, 0,2-0,4 MPa); Udara terkompresi (0,5-0,7 MPa)

 

Fitur Utama


Tingkat Ionisasi Tinggi:Meminimalkan delaminasi film melalui bombardir ion padat.


Stabilitas Busur Terkendali:Pemicu yang dapat diprogram dan regulasi arus loop tertutup menekan pembentukan makropartikel (tetesan) dan mencegah keracunan target di bawah gas reaktif (N2, C2H2, O2).


Sumber Busur Modular:Penempatan samping dan pintu beradaptasi dengan geometri alat 3D yang kompleks untuk distribusi ketebalan yang seragam.


Bias Substrat Berdenyut:Pulsa tegangan tersinkronisasi menyesuaikan tegangan sisa, kehalusan butiran, dan kekerasan mikro.


Tahapan-Rotasi Tugas Berat:Perlengkapan planetary mendukung muatan batch hingga 500 kg di bawah beban termal dan vakum yang tinggi.

 

Konfigurasi Sistem Vakum


Hidup seadanya & Akar:Pompa ulir kering multi-tahap yang dipasangkan dengan Roots blower mencegah kontaminasi hidrokarbon hingga tekanan transisi.


Vakum Tinggi:Pompa turbomolekuler atau difusi mempertahankan tekanan dasar yang sangat-tinggi.


Menjebak & Mengukur:Perangkap dingin nitrogen cair opsional; pengukur kombinasi Pirani/Katoda Dingin jangkauan luas.

 

Bahan Evaporasi & Kompatibilitas Substrat


Target Katoda:Logam murni (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) dan target paduan (TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co).


Bahan Substrat:Baja-kecepatan tinggi (HSS), sisipan karbida, baja perkakas kerja dingin/panas (SKD11, H13), baja tahan karat, dan paduan titanium.


Pra-Perawatan:Pembersihan ultrasonik dengan air diikuti dengan-pengetasan bombardir ion logam atau Ar+ di tempat untuk menghilangkan oksida asli.

 

Aplikasi


Alat Pemotong:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >Kekerasan permukaan 3000 HV dan ketahanan oksidasi.


Cetakan & Mati:Lapisan pelindung pada cetakan injeksi dan cetakan stempel untuk mencegah keausan yang menyakitkan dan abrasif.


Otomotif:Lapisan DLC dan CrN pada ring piston, roda gigi, dan pin injektor untuk menurunkan koefisien gesekan.


Alat kesehatan:Lapisan TiN/TiCN biokompatibel pada instrumen bedah dan implan.

 

Opsi Kustomisasi


Dimensi Ruang & Tata Letak Pelabuhan:Port volume dan pemantauan emisi optik (OEM) yang disesuaikan.


Generator:Merek-catu daya yang ditentukan pelanggan atau konfigurasi bias-berdenyut khusus.


Penyaringan:Bidang kemudi magnetis dan filter makropartikel untuk hasil akhir optik/elektronik tanpa tetesan.


Otomatisasi:Integrasi SCADA dan konektivitas database SQL untuk pencatatan data Industri 4.0.

 

Kontrol Kualitas & Pengujian Penerimaan Pabrik


Pengujian Kebocoran:Pengujian spektrometer massa helium pada semua lasan (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).


Keamanan Listrik:Resistansi isolasi, grounding, dan verifikasi interlock sesuai standar CE/NFPA.


Uji Kering Fungsional:Uji siklus mekanis dan katup terus menerus selama 72 jam.


Verifikasi Proses:Pengujian kupon referensi untuk kekerasan lekukan nano dan daya rekat gores.

 

Instalasi & Dukungan


Pra-Pemasangan:Cetak biru tata letak utilitas disediakan untuk listrik, air, pembuangan, dan udara bertekanan.


Komisioning:Penyiapan-di lokasi dan uji coba yang diawasi oleh teknisi pabrik.


Pelatihan:Pengoperasian{0}}langsung, penggantian katoda, dan pelatihan pemeliharaan rutin.


Perawatan Siklus Hidup:Diagnostik jarak jauh VPN yang aman dan penyediaan suku cadang lokal.

 

Pertanyaan Umum

 

T: Bagaimana makropartikel (tetesan) dikendalikan selama deposisi busur katodik?

J: Mitigasi bergantung pada arus busur yang dioptimalkan,-kemudi magnetik berkecepatan tinggi, dan filter makropartikel magnetik opsional untuk persyaratan permukaan yang sangat-halus.

T: Berapa tingkat pemanfaatan target katoda pada umumnya?

J: Pemanfaatannya berkisar antara 55% dan 70% berdasarkan profil erosi katoda dan konfigurasi medan magnet.

T: Bisakah sistem mengelola pengendapan gas reaktif untuk film multi-elemen seperti TiAlN?

J: Ya. Pengontrol aliran massa (MFC) menggunakan emisi optik atau umpan balik tekanan parsial untuk menstabilkan aliran reaktif (N2, CH4) dan mempertahankan komposisi stoikiometri.

Q: Apa saja kebutuhan daya listriknya?

J: Sistem standar memerlukan daya 3 fase (380V-480V, 50/60 Hz), dengan total kapasitas beban berkisar 60 kVA hingga 150 kVA tergantung pada kuantitas katoda.

 

Tag populer: sistem deposisi ion multi-arc, produsen, pemasok, pabrik sistem deposisi ion multi-arc, mengisolasi peralatan film tipis, peralatan film tipis plasma, Sistem Pelapisan Film Tipis, peralatan deteksi cacat film tipis, Peralatan film tipis untuk aplikasi manufaktur elektronik, peralatan pengemasan film tipis

Kirim permintaan
Hubungi kamijika Anda memiliki pertanyaan

Anda dapat menghubungi kami melalui telepon, email atau formulir online di bawah ini. Spesialis kami akan segera menghubungi Anda kembali.

Hubungi sekarang!