Sistem pengendapan uap fisik (PVD) yang memanfaatkan busur listrik-tegangan rendah, arus-tinggi yang terlokalisasi untuk menguapkan target katoda padat menjadi plasma terionisasi penuh. Laju ionisasi yang tinggi (40%-80%) mendorong ikatan tingkat atom yang padat dan tegangan tekan yang tinggi, sehingga memungkinkan pengendapan lapisan tahan aus dan dekoratif dengan kecepatan tinggi pada baja kecepatan tinggi (HSS), alat pemotong karbida, komponen otomotif, dan perangkat medis.
Spesifikasi Teknis
|
Parameter |
Rentang Spesifikasi / Detail |
|
Dimensi Ruang |
Volume internal yang disesuaikan (Φ 800 × 1000 mm hingga Φ 1500 × 1600 mm, SUS304/SUS316L ganda-air dinding-didinginkan) |
|
Tekanan Tertinggi |
Kurang dari atau sama dengan 5,0 × 10⁻⁴ Pa (konfigurasi turbomolekul dan akar/pompa pendukung putar) |
|
Tekanan Kerja |
0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N₂, C₂H₂, O₂) |
|
Sumber Busur Katoda |
4 hingga 12 sumber terfilter melingkar/persegi panjang atau standar dengan kemudi magnetik independen |
|
Bias Substrat |
Bias DC berdenyut (0 hingga -1000 V dapat disesuaikan, 10–100 kHz) |
|
Sistem Pemanas |
Pemanas kuarsa radiasi; suhu pemanggangan maksimum 500 derajat (± 5 derajat keseragaman) |
|
Arsitektur Kontrol |
Siemens PLC + PC Industri (IPC); eksekusi resep otomatis dan penggantian perangkat keras manual |
|
Pasokan Listrik |
3 fase, 380V/480V, 50Hz/60Hz (dikonfigurasi sesuai standar regional) |
Fitur Utama
Efisiensi Ionisasi Tinggi:Laju ionisasi plasma mencapai 40%-80%, memastikan adhesi film-ke-substrat yang unggul.
Katoda Modular:{0}}Perubahan target perakitan yang cepat meminimalkan waktu henti pemeliharaan; kompatibel dengan katoda silinder planar dan berputar.
Tertutup-Kontrol Gas Loop:Pengontrol aliran massa MKS menjaga tekanan parsial gas reaktif yang tepat untuk film majemuk (TiAlN, TiCN).
Rotasi Planet Multi-Sumbu:Penggerak rotasi dan revolusi yang disesuaikan memastikan keseragaman ketebalan (±5%) di seluruh geometri 3D yang kompleks.
Pengoperasian-Mode Ganda:Mendukung integrasi penguapan busur DC dan sputtering bias berdenyut untuk arsitektur multi-lapisan.
Konfigurasi Sistem Vakum
Pompa Hidup Seadanya:Kombinasi akar dan pompa baling-baling putar untuk pemompaan cepat-turun dari atmosfer hingga 10 Pa.
Pompa Vakum Tinggi:Pompa turbomolekul yang melayang secara magnetis (1600–3200 L/s) memastikan tekanan dasar bebas hidrokarbon-.
Katup & Pengukur:Katup gerbang vakum pneumatik tinggi-dengan Pirani dan interlock ionisasi katoda dingin untuk mencegah aliran balik oli.
[Panduan Visual untuk Produser Web]:Masukkan foto skematis atau jelas dari tata letak pipa vakum, soroti posisi pompa turbomolekuler dan katup gerbang pneumatik.
Bahan Evaporasi & Kompatibilitas Substrat
Target Katoda Standar (Kemurnian Lebih Besar dari atau sama dengan 99,95%)
Logam Transisi:Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (50/50, perbandingan atom 33/67), CrAl, W, Nb, Si.
Paduan & Senyawa:Grafit (untuk interlayer DLC), baja tahan karat.
Kompatibilitas Substrat & Pra-Perawatan
Bahan:WC-Alat pemotong co, pemotong hobbing, bros, cetakan stempel, cetakan injeksi, paduan titanium (Kelas 5), dan baja tahan karat.
Pra-Perawatan:Pembersihan dengan pelarut ultrasonik dan pembersihan bombardir ion di tempat (pengetsaan plasma Ar⁺) di dalam ruangan sebelum pengendapan.
Aplikasi
Alat Pemotong & Pembentuk:Lapisan TiN, TiAlN, dan AlCrN meningkatkan kekerasan permukaan hingga 3000–3500 HV, sehingga menekan kawah termal dan keausan abrasif.
Komponen Otomotif:Gesekan-mengurangi lapisan pada ring piston, pin injeksi bahan bakar, dan komponen roda gigi.
Implan Medis:Lapisan keras TiN dan ZrN yang biokompatibel pada penggantian sendi ortopedi dan sekrup bedah.
Perangkat Keras Dekoratif:Produksi spektrum warna (kuningan emas, emas mawar, hitam gunmetal, abu-abu titanium) melalui penyetelan gas reaktif.
Opsi Kustomisasi
Geometri Kamar:Konfigurasi pemuatan vertikal (dipasang di lubang atau di lantai berdiri) atau konfigurasi pemuatan di depan horizontal.
Konfigurasi Sumber:Sumber saluran magnetik busur katodik (FAC) yang disaring untuk menghilangkan partikel makro untuk elektronik optik atau presisi.
Otomatisasi:Lengan pemuatan robot, integrasi docking AGV, dan protokol pencatatan data MES.
Kontrol Kualitas & Pengujian Pabrik
Deteksi Kebocoran:Pengujian spektrometer massa helium pada semua ruang dan lapisan las (Kurang dari atau sama dengan 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).
Keamanan Listrik:Resistansi isolasi-tegangan tinggi, kontinuitas grounding, dan verifikasi fungsi interlock PLC.
Uji Coba (FAT):Uji coba pengeringan terus menerus selama 72-jam-ditambah uji deposisi lapisan standar yang dievaluasi melalui uji Calo (ketebalan) dan penguji gores (adhesi).
Paket Dokumentasi:Skema kelistrikan, diagram P&ID, kode sumber PLC, sertifikat material, dan laporan FAT.
Instalasi & Dukungan Teknis
Persiapan Lokasi:Gambar tata letak terperinci, metrik air pendingin, dan spesifikasi distribusi daya diberikan 4 minggu sebelum pengiriman.
Komisioning:Perakitan mekanis di-lokasi, kalibrasi vakum, dan serah terima resep oleh teknisi proses senior.
Pelatihan:Petunjuk praktis yang mencakup pemeliharaan perangkat keras, pemecahan masalah vakum, dan protokol keselamatan.
Mendukung:Integrasi perangkat lunak diagnostik jarak jauh untuk-pemecahan masalah PLC secara real-time, didukung oleh inventaris suku cadang regional.
Pertanyaan Umum
T: Bagaimana sistem mengontrol makropartikel (tetesan)?
J: Sistem standar menggunakan medan pengurungan magnet yang dioptimalkan untuk mengarahkan titik busur dengan cepat. Untuk aplikasi optik atau ultra-halus, kami mengintegrasikan saluran magnetik Filtered Cathodic Arc (FAC) untuk menyaring tetesan seluruhnya.
T: Berapa target tingkat pemanfaatan dan waktu penggantian?
J: Target planar dan sirkular mencapai 45%-60% pemanfaatan. Target didinginkan dengan air-dan dipasang melalui segel penjepit cepat, memungkinkan penggantian target dalam waktu 45 menit.
T: Apa saja persyaratan utilitas fasilitas?
A: Pasokan air dingin (8–15 m³/jam, 18–22 derajat, 0,2–0,3 MPa), udara bertekanan (0,6 MPa), dan tenaga industri 3 fase yang stabil.
T: Apakah resep proses yang sudah ada dapat ditransfer?
J: Ya. Platform IPC Siemens memungkinkan input parameter langsung untuk arus busur, tegangan bias, aliran gas, dan durasi agar sesuai dengan resep industri yang ada.
Tag populer: peralatan film tipis busur katodik, produsen peralatan film tipis busur katodik Cina, pemasok, pabrik, Peralatan film tipis untuk aplikasi pembuatan perangkat intelijen buatan, Sistem plasma film tipis, Sistem Sputtering Film Tipis, Sistem Vakum Film Tipis
