Peralatan pelapis sputter magnetron

Magnetron Sputtering Coating Machine adalah teknologi deposisi uap fisik yang menggunakan medan magnet dan interaksi ion untuk menyiapkan film tipis. Mesin pelapis sputtering magnetron menggunakan teknologi inti perusahaan yang telah terbukti: pembersihan ionbeam + sumber sputtering magnetron. Di ruang vakum, lingkungan mencapai keadaan vakum yang tinggi dengan menyedot debu. Kemudian, dengan menggunakan debit cahaya atau radiasi frekuensi radio, permukaan target diaktifkan untuk mengionisasi atom atau molekul gas yang berfungsi dan membentuk plasma. Kemudian, dengan menerapkan medan magnet, ion dikendalikan oleh medan magnet, meningkatkan probabilitas mengenai permukaan target. Balok ion bertabrakan dengan permukaan target, menyebabkan atom atau molekul pada target untuk mengacaukan dan menyimpan pada permukaan substrat pada kecepatan yang lebih tinggi untuk membentuk film. Energi sinar ion dapat disesuaikan, dan struktur dan sifat film dapat diubah dengan mengendalikan energi dan kepadatan sinar ion. Mesin pelapis sputtering magnetron mengadopsi kontrol otomatis penuh, optimasi integrasi modular, daya tinggi, stabilitas yang baik, operasi sederhana dan pemeliharaan yang mudah. Mesin sputtering magnetron cocok untuk pengembangan pelapisan dan layanan pelapisan batch.

mengekspresikan kecepatan deposisi cepat;

mengekspresikan kenaikan suhu substrat rendah;

Ekspresikan kerusakan pada lapisan membran kecil;

mengekspresikan ikatan membran yang baik;

Ekspresikan kemurnian film tinggi, kepadatan yang baik, keseragaman film yang baik;

mengungkapkan pengulangan yang baik;

Ekspresikan cocok untuk berbagai bahan;

mengekspresikan industrialisasi yang mudah direalisasikan;

Ekspresikan komposisi lapisan film dekat dengan bahan target.

Ekspresikan lapisan filmnya bagus;

Ekspresikan bias negatif diterapkan pada benda kerja;

Teknik target komposit eksposisi.